應用範圍：

各種(zhǒng)樣(yàng)品中低含量、微量和痕量的金屬元素，以及部分非金屬元素的定性和定量分析；

尤其适合分析樣(yàng)品量大，分析結果要求高的用戶；

可廣泛應用于石油、化工、冶金、鋼鐵、地質、農業、環保、水質、食品、藥品、疾控、材料、質檢等行業。

技術特點：

超高的分辨率+優異的光學(xué)性能(néng)

PlasmaQuant 9100光學(xué)分辨率可達3pm，達到譜線自然寬度水平，因此即便面(miàn)對(duì)複雜的基體樣(yàng)品，也可輕松應對(duì)光譜幹擾。同時，PlasmaQuant 9100采用原裝的卡爾蔡司光學(xué)系統，保證了160nm-900nm波長(cháng)連續全覆蓋和優于0.0004nm的波長(cháng)準确度。   

高分辨率可在最大範圍内提供最佳的分辨率的分析譜線，特别适合各種(zhǒng)複雜樣(yàng)品的檢測，提供準确的分析結果，讓分析工作變得更爲簡單高效。

增強型雙向(xiàng)觀測技術

一次進(jìn)樣(yàng)4種(zhǒng)觀測方式，沒(méi)有濃度斷檔，無需分組或稀釋，可滿足不同濃度（ppb-%）的同步測量，爲所有元素和濃度提供最合适的觀測和測量方式，滿足所有應用要求。   

最強勁穩定的等離子體激發(fā)系統

PlamaQuant 9100高分辨率ICP-AES配備高能(néng)量、高穩定的等離子體激發(fā)系統，可從容應對(duì)最複雜基體樣(yàng)品的測定，顯著擴大測試的應用範圍。同時由于儀器在複雜基體中可獲得極低的檢出限和樣(yàng)品允許使用更少的前處理步驟，使得測試結果更加精準、方法穩定性更佳，測試效率大大提高。滿足省時——開(kāi)機即測(5分鍾)；省氣——無需提前和延時吹掃，所有吹掃氣體和冷卻氣體都(dōu)將(jiāng)引入等離子氣充分利用；省事(shì)——高濃鹽、有機樣(yàng)、高低濃度一次完成(chéng)測定。　　

直觀的軟件界面(miàn)，智能(néng)的背景扣除技術

Aspect PQ軟件控制、監控和記錄整個PlasmaQuant 9100系統的所有過(guò)程，模塊化設計簡潔，提供最大的操作靈活性。

ABC背景校正技術，軟件可自動精确扣除背景，消除人爲誤差，保證數據準确，可重現性好(hǎo)。

CSI，先進(jìn)的光譜建模扣背景技術，可將(jiāng)樣(yàng)品基體的精細結構背景，在測量時通過(guò)模型進(jìn)行扣除，得到測試元素本身的譜圖，還(hái)原譜線本真模樣(yàng)。

* 人性化設計 — 即開(kāi)即測，操作便捷、維護簡單    

* 即開(kāi)即用 — 高性能(néng)新一代CCD檢測器     

* 省時省氣 — 測試結束即可關機，深紫外區元素無需長(cháng)時間提前吹掃

* 實時自檢系統 — 全方位保障，使您安心 

* 組合式炬管 — 高靈活性，降低成(chéng)本     

* 卡插式設計 — 自動準直，1分鍾即可完成(chéng)安裝

PlasmaQuant 9100是工業等許多應用領域分析的有利幫手，可揭示樣(yàng)品的最小細節，助您在質量控制、成(chéng)分分析和過(guò)程控制方面(miàn)大有所爲！